多孔氮化硅TEM载网是一种专为透射电子显微镜(TEM)设计的高性能载网，它以高纯单晶硅为基底，覆盖一层超薄氮化硅(厚度10-50nm)作为支撑膜，能够实现原子级分辨率的成像。
多孔氮化硅TEM载网的优势：
1、原子级分辨率：厚度均匀，电子束穿透率高，成像背景噪音较低，可清晰呈现原子级结构，尤其适合球差电镜的高分辨表征。
2、耐高温与耐腐蚀：氮化硅膜可耐受1000℃高温及酸性环境，适用于高温样品制备或酸性条件下的TEM观察，而传统铜网在此类条件下易变形或腐蚀。
3、无碳元素干扰：不含碳元素，避免了传统碳膜载网在电子束辐照下积碳的问题，确保长时间观察或高剂量辐照时成像质量稳定。
4、良好的电子束穿透性：超薄的氮化硅膜不含碳元素，能有效避免积碳，减少电子束散射，提供清晰的背景，尤其适合球差原子分辨表征，可获得高质量的 TEM 图像。
制备方法：
通常采用化学气相沉积法(CVD)结合光刻、刻蚀等微纳加工技术制备。如先通过 LPCVD 在硅片基底上沉积氮化硅薄膜，然后利用光刻技术在薄膜上形成图案，再通过反应离子刻蚀(RIE)等方法刻出多孔结构，最后去除基底硅，得到多孔氮化硅 TEM 载网。
使用时避免在潮湿或腐蚀性环境中长时间暴露，以防氮化硅膜性能下降。
